《原神》攻略——正机之神一阶段技能效果是什么

文章来源：编辑铺作者：远邦软件园发布时间：2024-01-30 06:30:53

在原神游戏中，随着3.2版本的更新，正机之神作为本次全新的一个挑战BOSS已经登场了，而不少小伙伴都想要了解正机之神一阶段的技能来方便挑战，那么原神正机之神一阶段技能效果是什么呢?接下来就让我们一起来看看原神3.2正机之神一阶段技能介绍吧。

原神3.2正机之神一阶段技能介绍

1. 正机：桌面清理

▋技能步骤：

●喷雾与抹布：

常见的技能之一。正机使用靠下面的2个机械臂进行攻击，先用一侧的机械臂吹出气雾，留下条带状的附魔地面，后用另一侧的机械臂拍桌，留下块状的附魔地面，最后掉落1个大能量块;

该技能有左右之分：左侧机械臂对应火元素，右侧机械臂对应冰元素，简称左火右冰。

机械臂的吹拂造成100%对应元素伤害，拍桌造成66%对应元素伤害。其中，吹拂的伤害遵循I型递减规律，其递减序列为100%[1,0.5,0.25,0.1]。

另外，霜寒地面触碰造成5%冰元素伤害，余火地面触碰造成15%火元素伤害。

伤害参考：100%=5357，66%=3536，5%=268，15%=803

●躲避：

整个技能的动作较为缓慢，前摇很长，躲避难度不高，其中，机械臂的吹拂攻击是最需要躲开的，因为其影响的范围是非常大的，横跨大半个场地：

在气雾快要碰到角色时，进行一次闪避即可躲开;

气雾形成的霜寒或者余火地面不是全部覆盖的，其为条带状分布，如图3所示;而最后拍桌是整块区域被霜寒或者余火地面覆盖，如需完全躲避，在拍桌的那一侧的后方可以完美躲开全部的攻击，并可趁机进行输出。

2.正机：拍桌

▋技能步骤：

●拍蟑螂：

正机使用一侧的机械臂举高，托举对应的元素，该技能也有左右之分，左火右冰，接着进行拍桌，拍桌时额外产生一次更大范围的震波攻击，留下块状的附魔地面，掉落1个大能量块。

拍桌造成100%对应元素伤害，产生的震波造成66%对应元素伤害。

伤害参考：100%=5357，66%=3536

●常见COMBO：

|「拍桌」>「清扫」|(概率施放)

●躲避：

该技能的前摇极其长。当机械臂举起来的时候，跑到对侧去躲避即可;如果离正机太近，可能会被接下来的「清扫」技能命中。

震波的影响范围比较大，不要尝试在场地中间区域逗留。

附魔地面的范围只有第一次拍桌的范围那么大，震波不会留下附魔地面。

3.正机：清扫

▋技能步骤：

●桌面有点脏：

该技能一般跟在「清扫」技能之后。正机使用机械臂在场上扫过，并留下一小块的附魔地面，该技能也有左右之分，左火右冰。

清扫造成100%对应元素伤害。

伤害参考：100%=5357

●躲避：

前摇比较不明显，当正机拍桌后，机械臂没有直接拿开而是张开手，说明即将进行清扫工作。

无论如何，拍桌后远离正机本体即可(如图7)。

4.正机：风怒

▋技能步骤：

●冲刷：

正机先使用右手放出3个风眼，随后使用左手染上水元素形成水龙卷。水龙卷在场地上随机游走，一段时间后爆发，每个水龙卷留下1个小能量块。

风眼造成33%风元素伤害，触碰水龙卷造成50%水元素伤害，水龙卷爆发造成75%水元素伤害，

伤害参考：33%=1768，50%=2678，75%=4018

●躲避：

水龙卷的的游走速度比较慢，躲避难度很小，一般来说，玩家左侧的两个水龙卷倾向于顺时针游走，剩下一个倾向于逆时针游走，

风眼刚刚形成会牵引玩家。

5.正机：漏电

▋技能步骤：

●强力去污：

(仅半瘫时施放，半瘫唯一有伤技能)正机举起没有瘫痪的那一侧的机械臂，在场地进行5-6次的落雷攻击，落雷的攻击大致遵循下列规律(第5次落雷有2道)：

◆在机械臂附近产生第1、2次落雷，各掉落1个小能量块;

◆远处预判玩家位置产生第3次落雷;

◆在机械臂附近产生第4次落雷，掉落1个小能量块;

◆第5次落雷产生在机械臂附近、远处预判玩家位置的落雷各1道，机械臂附近的落雷掉落1个小能量块;

◆第5次落雷后，正机的机械臂依然未放下，若玩家靠的较近则产生第6次落雷，该落雷在机械臂附近;

◆如果离机械臂够近，则落雷几乎全部预判玩家施放。

每道落雷造成66%雷元素伤害。

伤害参考：66%=3536

●躲避：

远离正机之神的那一侧手臂，尽量移步到瘫痪的那一侧，这样只需要躲避第3、5次的落雷。

当这几道落雷施放完毕时，正机即从半瘫状态完全恢复。

触发第6次落雷：

6.正机：撒料

▋技能步骤：

●桌面用清洁剂：

正机呈双手交叉状，使用上面两个机械臂朝场地播撒雷晶，方向是从场地的两侧到中间;撒播完毕后立即在两侧留下1个小能量块，随后俩机械臂都朝玩家丢出1个大雷棱镜。

雷晶弹命中造成100%雷元素伤害，每个大雷棱镜命中造成50%雷元素伤害，其中，雷晶弹的伤害遵循I型递减规律，其递减序列为100%[1,0.5,0.25,0.1]。

伤害参考：100%=5357，100%=2678

●躲避：

场地的大致形状是一个扇弧形，长弧为外短弧为内，撒料的范围在场地靠内侧的位置，因此在场地外侧或者入场的区域可以全部躲开;两个雷棱镜只需要在快到达的时候按冲刺躲开即可。

7.正机：迪斯科

▋技能步骤：

●纶转百洁：

正机下面的两个机械臂呈抱球状，在周围产生12个逆时针缓慢转动的**，**发射激光;10s后，**停转，发射高能激光束，技能结束后掉落1个大能量块。

不论哪种激光，都造成100%雷元素伤害。此外，正机周围有等离子场存在，处在其中仍受伤，伤害与激光完全相同，其中，激光的伤害遵循I型递减规律，其递减序列为100%[1,0.5,0.25]。

伤害参考：100%=5357

●躲避：

该技能为周期性技能(每1min，与「高压」交替施放)。技能开始到发射激光总共有约4s的有效时间，推荐激活风元素矩阵来产生风场完全躲开，也可以如图11所示连续使用冲刺躲避。注意，不能在近身处躲避，等离子场的存在会让你受到一模一样的伤害。

8.正机：高压

▋技能步骤：

●地面清洁：

正机上方的两个机械臂呈八字状，利用核心产生雷球，发射激光灼烧全场地面，称为祸雷;5s后，雷球爆破，掉落1个大能量块。

地面祸雷持续造成50%雷元素伤害，雷球爆发造成100%雷元素伤害。

伤害参考：50%=2678，100%=5357

●躲避：

该技能为周期性技能(每1min，与「迪斯科」交替施放)。技能开始到发射激光总共有约6s的有效时间，只能通过激活风元素矩阵来完美躲避，完全不推荐其他的躲法。

「在躲避该技能之前，请确保新式虚空终端有足够的能量来激活风元素矩阵躲避技能伤害」

9.正机：震慑

▋技能步骤：

●空气清新：

正机从半瘫或者全瘫恢复，给全场的玩家一个较强的击退效果。

▋瘫痪：

激活雷元素矩阵时，会强制打断正机正在进行的任何技能，瘫痪不减任何抗性。

使用雷元素矩阵瘫痪正机之神的一侧：

半瘫状态持续16s，恰好为「漏电」技能的持续时间;当在半瘫期间再次使用另一侧的雷元素矩阵，则正机进入全瘫状态：全瘫状态持续30s，期间正机完全瘫痪不施放任何技能。

雷元素矩阵CD为60s，妥善规划能量块以保证输出时间最大化为佳。

以上就是关于原神3.2正机之神一阶段技能介绍的全部内容分享啦，小伙伴们可以了解一下哦，希望对大家有所帮助。